现在，极紫外光刻机（EUV）的仅有供货商便是ASML，EUV关于大规模出产速度快、能耗低的芯片至关重要，但
为此，从2017年开端，佳能就与铠侠，以及半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）协作，研制根据纳米压印（NIL）的量产技能，在不运用EUV的情况下将制程技能推进到5nm。
佳能表明，这套出产设备的作业原理和ASML光刻机不同，并不使用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技能，直接经过压印构成图画。
铠侠从前表明，因为NIL技能的微影制程较为单纯，因而比较于EUV能够大幅度削减耗能，并下降设备本钱。
御手洗富士夫还表明：“我不认为纳米压印技能会替代EUV，但我信任这将发明新的时机和需求，并且咱们已收到了许多客户的咨询。”
